Notice bibliographique
- Notice
Type(s) de contenu et mode(s) de consultation : Texte noté : électronique
Titre(s) : Copper electrodeposition for nanofabrication of electronics devices [Texte électronique] / Kazuo Kondo, Rohan N. Akolkar, Dale P. Barkey, Masayuki Yokoi, editors
Publication : New York : Springer, 2014
Description matérielle : 1 online resource (1 texte électronique (viii, 282 pages))
Collection : Nanostructure Science and Technology ; volume 171
Note(s) : Titre de l'écran-titre (visionné le 28 février 2014)
This book discusses the scientific mechanism of copper electrodeposition and it's
wide range of applications. The book will cover everything from the basic fundamentals
to practical applications. In addition, the book will also cover important topics
such as: ULSI wiring material based upon copper nanowiring ; Printed circuit boards
; Stacked semiconductors ; Through Silicon Via ; Smooth copper foil for Lithium-Ion
battery electrodes This book is ideal for nanotechnologists, industry professionals,
and practitioners
Autre(s) auteur(s) : Kondo, Kazuo. Fonction indéterminée
Akolkar, Rohan N.. Fonction indéterminée
Barkey, Dale P.. Fonction indéterminée
Yokoi, Masayuki. Fonction indéterminée
Indice(s) Dewey :
541.37 (23e éd.) = Électrochimie et magnétochimie
Identifiants, prix et caractéristiques : ISBN 9781461491767
Identifiant de la notice : ark:/12148/cb44666459h
Notice n° :
FRBNF44666459
(notice reprise d'un réservoir extérieur)
Table des matières : Copper Electrodeposition ; Suppression Effect and Additive Chemistry ; Acceleration
Effect ; Modeling and Simulation ; Frontiers of Cu Electrodeposition and Electroless
Plating for On-Chip Interconnects ; Microstructure of Evolution of Copper in Nano-scale
Interconnect Features ; Direct Copper Plating ; Through Silicon Via ; Build-up
Printed Wiring Boards ; Copper Foil Smooth on Both Sides for Lithium Ion Battery
; Through Hole Plating.