Notice bibliographique
- Notice
Type(s) de contenu et mode(s) de consultation : Texte noté : électronique
Titre(s) : Handbook of thin-film deposition processes and techniques [Texte électronique] : principles, methods, equipment, and applications / edited by Krishna Seshan
Édition : 2nd ed.
Publication : Norwich, N.Y. : Noyes Publications, c2002
Description matérielle : 1 ressource dématérialisée
Collection : Materials science and process technology series. Electronic materials and process
technology
Note(s) : Includes bibliographical references and index
Autre(s) auteur(s) : Seshan, Krishna. Fonction indéterminée
Sujet(s) : Dispositifs à couches minces -- Conception et construction
Genre ou forme : Guides pratiques
Indice(s) Dewey :
621.381 52 (23e éd.) = Semi-conducteurs
Identifiants, prix et caractéristiques : ISBN 9780815514428
Identifiant de la notice : ark:/12148/cb44651542n
Notice n° :
FRBNF44651542
(notice reprise d'un réservoir extérieur)
Table des matières : Recent Changes in the Semiconductor Industry / Krishna Seshan ; 1. Deposition Technologies
and Applications: Introduction and Overview / Werner Kern and Klaus K. Schuegraf ;
2. Silicon Epitaxy by Chemical Vapor Deposition / Martin L. Hammond ; 3. Chemical
Vapor Deposition of Silicon Dioxide Films / John Foggiato ; 4. Metal Organic Chemical
Vapor Deposition: Technology and Equipment / John L. Zilko ; 5. Feature Scale Modeling
/ Vivek Singh ; 6. The Role Of Metrology and Inspection In Semiconductor Processing
/ Mark Keefer, Rebecca Pinto and Cheri Dennison / [and others] ; 7. Contamination
Control, Defect Detection, and Yield Enhancement in Gigabit Manufacturing / Suresh
Bhat and Krishna Seshan ; 8. Sputtering and Sputter Deposition / Stephen Rossnagel
; 9. Laser and Electron Beam Assisted Processing / Cameron A. Moore, Zeng-qi Yu and
Lance R. Thompson / [et al.] ; 10. Molecular Beam Epitaxy: Equipment and Practice
/ Walter S. Knodle and Robert Chow ; 11. Ion Beam Depositio
