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Auteur(s) : Journées Photomécanique (1995 ; Cachan, Val-de-Marne). Auteur du texte  Voir les notices liées en tant qu'auteur

Titre(s) : Photomécanique 95 [Texte imprimé] : étude du comportement des matériaux et des structures : Journées organisées à l'École normale supérieure de Cachan, 14-16 mars 1995... / [par le] GAMAC, Groupe pour l'avancement des méthodes d'analyse des contraintes ; avec le concours du Laboratoire de mécanique et technologie ; [éd. par] Yves Berthaud, Dimitri Paraskevas, Michel Taroni

Publication : Paris : Eyrolles, 1995

Impression : Paris : Impr. Jouve

Description matérielle : 324 p. : ill. ; 24 cm

Note(s) : Textes des communications en anglais ou en français. - Notes bibliogr. Résumés

Autre(s) auteur(s) : Berthaud, Yves (1958-....). Éditeur scientifique  Voir les notices liées en tant qu'auteur Paraskevas, Dimitri. Éditeur scientifique  Voir les notices liées en tant qu'auteur Taroni, Michel. Éditeur scientifique  Voir les notices liées en tant qu'auteur Groupement pour l'avancement des méthodes d'analyses des contraintes (France). Éditeur scientifique  Voir les notices liées en tant qu'auteur Laboratoire de mécanique et technologie (Cachan, Val-de-Marne). Éditeur scientifique  Voir les notices liées en tant qu'auteur

Sujet(s) : Matériaux -- Essais  Voir les notices liées en tant que sujet Photométrie  Voir les notices liées en tant que sujet Photoélasticité  Voir les notices liées en tant que sujet Plaques et coques élastiques -- Essais  Voir les notices liées en tant que sujet

Genre ou forme : Actes de congrès  Voir les notices liées en tant que genre ou forme

Identifiants, prix et caractéristiques : ISBN 2-212-08852-3 (br.) : 350 F

Identifiant de la notice  : ark:/12148/cb357665141

Notice n° :  FRBNF35766514